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新产品:

反应磁控

                  

反应磁控溅射系统: 高薄膜质量、高精度

高均匀性、适合研发和量产。

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公司背景:

       三河市衡岳真空设备有限公司由张诚博士于2015年创立,专注于高端真空镀膜设备研发及制造的高科技公司。公司位于三河市燕郊开发区全景工业园,拥有1500平方米标准厂房。公司汇集了薄膜工艺、自动化控制、机械制造等各方面优秀人才。公司总经理张诚2004年初获北京理工大学光学薄膜专业博士学位,之后12年时间里服务于欧美真空镀膜设备公司驻华机构,先后负责过中国市场的销售、技术服务以及外销设备在国内的生产制造,积累了丰富的实践经验。

公司理念:

       以工艺为导向,坚持技术创新,坚持自主核心技术,为用户设计制造技术优良、稳定可靠、操作方便的真空镀膜系统。

一.坚持工艺为导向

       公司坚持以工艺为导向,为客户提供完善的工艺解决方案,并与2016年底成立了镀膜工艺中心。

       1. 对比较特殊的工艺,衡岳工艺部门可提供试镀服务,保证客户买得放心;

       2. 从工艺角度出发改进设备,使设备贴合工艺要求;

       3. 提供镀膜外协服务;

二.坚持核心技术自主研发:
        技术创新是公司的价值和生命,公司坚持自行开发核心部件,以保证核心竞争力和技术持续改进能力。衡岳真空成立后两年半时间内,在研发上的累计投入已经超过500万人民币。到2017年9月,公司提交了三项发明专利申请。设备方面完成了下列技术工作:

       1. 完善定型了常规磁控溅射系统SP530和SP600;

       2. 完善定型了电子束蒸发镀膜机EB450,EB660,EB800,EB900;

       3. 开发定型了高频感应蒸发系统IH450;

       4. 开发定型了精密磁控溅射系统ASP750,ASP900,ASP1200(均匀性优于±0.5%,重复性+/-1%);

       5. 开发定型了反应磁控溅射系统RSP750,RSP900 , RSP1200(均匀性优于±0.5%,重复性+/-1%)。

       自行开发完成的核心部件包括:

       1. 开发定型了2-10英寸直径的圆形磁控溅射靶枪;

       2. 开发了用于溅射的直流溅射电源,直流脉冲电源;

       3. 开发了磁控溅射用自动切换器;

       4. 开发了用于自动进样的机械传送装置;

       5. 开发了高频感应蒸发用多坩埚旋转机构

       6. 开发了两种离子源,包括一种霍尔源和一种新型的免维护射频离子源;

产品和服务:

真空镀膜设备:

  1. SP530、SP600 共焦磁控溅射系统—适合于直流、脉冲直流、射频磁控溅射金属、介质材料薄膜;
  2. EB450、EB660、EB800、EB900电子束蒸发系统—可以配置射频离子源;
  3. EH450高频感应蒸发系统—采用高频电流感应的方式蒸发蒸发温度在1500度以下的材料,相比传统阻蒸具有蒸发速率稳定,装料量大,节省材料,坩埚可以反复使用等优点,替代传统电阻蒸发;
  4. ASP750,ASP900,ASP1200精密磁控溅射系统—适合于批量生产及要求高均匀性、重复性磁控溅射镀膜,采用垂直溅射方式;
  5. RSP750,RSP900,RSP1200反应磁控溅射系统—采用反应磁控溅射方式镀制氧化物或者氮化物,薄膜致密性超过电子束离子辅助沉积,均匀性、重复性好,可以进行精密光学镀膜,或者镀制高致密性氧化物、氮化物薄膜;

真空镀膜服务:

       公司工艺部承接镀膜外协服务,以及为设备提供工艺开发、试镀服务。

公司优势:

  1. 性价比高:所有定型设备,性能均等同或者超过国外同类进口设备,有竞争力的价格,优质快捷的技术支持和售后服务;
  2. 研发能力强:公司汇集了机械设计、自动化控制、薄膜工艺的专业人才,现有博士一人,硕士六人,本科16人,有持续研发改进设备的能力;

公司重要事件:

  • 2017年6月改进了高频感应蒸发技术,使其可以蒸发材料的最高温度从700度提高到1500度,大大增加了高频感应蒸发技术的适用范围;
  • 2017年5月定型了新型射频离子源RIS系列;
  • 2017年4月定型了反应磁控溅射系统RSP1200,相比测试型RSP系统    性能大幅提升;
  • 2016年10月优化改进了进样室,大幅提高了进样室传送稳定性;
  • 2016年8月优化改进了磁控溅射靶枪结构,解决了靶材安装面变形的问题,一方面提高了靶材散热效果,从而保证工艺稳定性;另一方面解决了安装面变形挤碎化合物靶材的问题;
  • 2016年6月定型了量产型精密磁控溅射系统(ASP系列);
  • 2015年10月推出测试版反应磁控溅射系统RSP750;
  • 2015年8月定型高频感应蒸发技术和设备(IH系列);
  • 2015年6月定型常规磁控溅射台(SP系列);
  • 2015年5月定型电子束蒸发设备(EB系列);

 

 

射频离子源

                                    

新型射频离子源: 高离化率、无污染、

无损伤、免维护、可以长时间连续工作

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