衡岳真空-专注真空镀膜

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衡岳真空专注于物理汽相沉积技术（PVD），我们的产品包括：电子束蒸发系统（研发及量产），常规磁控溅射系统（研发及小批量），高频感应蒸发系统（研发及量产），等离子体增强反应磁控溅射系统（研发及量产）及精密磁控溅射系统（研发及量产），以及多种技术组合的定制系统。

	电子束蒸发系统
		标准型号EB-400、EB-660、EB-800、EB-900，可定制更大型号电子束、高频感应蒸发进行金属或者精密光学镀膜衡岳真空霍尔离子源或新型射频离子源可选石英晶体膜厚控制器控制蒸发速率和厚度不同数量及尺寸坩埚可选高频感应蒸发旋转阻蒸可选多种形式工装可选计算机全自动控制	下载产品彩页

	常规共焦磁控溅射系统
		标准型号SP-530、SP-600、SP-730 采用直流、脉冲直流、射频磁控溅射金属、介质材料薄膜共焦溅射结构 SP530工件盘直径6英寸，SP600工件盘直径9英寸，SP730工件盘直径13英寸一次溅射一个工件盘，适合研发及小批量生产自动进样室可选多种形式工件台可选（普通、水冷、加热、偏压预清洗或多种功能组合工件台）计算机全自动控制	下载产品彩页

	IH450高频感应蒸发系统
		采用高频感应加热方式替代常规电阻蒸发技术最高加热温度1600度相比传统阻蒸，具有装料多、节省材料、蒸发稳定、坩埚可以反复使用、蒸发过程不喷溅等优点高频感应旋转阻蒸可选该技术可以组合到磁控溅射或者电子束蒸发系统中计算机全自动控制	下载产品彩页

	等离子体增强反应磁控溅射系统
		2016年研制完成并推出，适合于镀制高致密性、高均匀性、高重复性薄膜的工艺应用快速沉积金属薄膜以及高致密性氧化物、氮化物薄膜三个型号：RSP-750、RSP-900、RSP-1200，适应不同产能要求结合了离子束溅射膜层致密、重复性高的优点和电子束蒸发速率快、产能高的优点使用、维护简单方便，易损件少均匀性优于±0.5%，重复性±-0.5% 适合镀制超薄膜层、复杂的多层膜系、低温镀膜计算机全自动控制	下载产品彩页

	精密磁控溅射系统
		和反应磁控溅射同步推出，适合于镀制高致密性、高均匀性、高重复性的金属（直流溅射）或者介质薄膜（射频溅射）的工艺应用三个型号：ASP-750、ASP-900、ASP-1200，适应不同产能要求适合量产要求，ASP-750一次镀制四个8英寸工件盘，ASP-900一次镀制五个10英寸工件盘，ASP1200一次镀制五个12英寸工件盘均匀性优于±0.5%，重复性±-0.5% 使用、维护简单方便，易损件少适合镀制超薄膜层及低温镀膜计算机全自动控制	下载产品彩页

	新型射频离子源
		高离化率（纯氧气离化率>60%）工作气体氩气、氧气、氮气等，可以在纯氧气环境下稳定工作无污染，离子源不发出任何杂质无损伤，离子能量可以控制到极低的水平，不会对基片造成损伤免维护，基本无耗材，使用简单可以长时间连续工作（>300小时）	下载产品彩页

衡岳真空-专注于物理气相沉积技术，为您解决镀膜问题

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